薄層成像掃描儀2002

儀器簡介 
   薄層2002型薄層成像掃描儀是同德公司為了滿足薄層色譜分析需要而設計的便攜式新產(chǎn)品，它的處理速度快和分辨率高,而且具有噪音小、線性好的特性。儀器由光源、光學采樣系統(tǒng)、薄層色譜色譜工作站三大部分組成，薄層色譜工作站是目前國內(nèi)開發(fā)的 軟件，對儀器可全自動的控制同時還可對薄層色譜斑點進行定量處理.定量精度與進口產(chǎn)品相近,滿足藥廠\高校日常分析的需要，省時省力是您實驗室的好助手。 

薄層成像掃描儀2002 
儀器參數(shù) 
1.掃描方式：線性掃描，雙波長掃描，多通道掃描 
2.光源：254/365nm紫外光源、400-750可見光源。 
3.分辨率可達10um 
4.重現(xiàn)性:≥99%  
5. 檢測方式：反射法、熒光法。 
6、算法：歸一法，內(nèi)標法，外標法（一點直線法，兩點曲線法），符合藥典要求。 
7.軟件環(huán)境：WIN XP/2000/NT， 

儀器特點 
1. 有與單波長掃描,雙波長掃描，多通道掃描功能， 
2.對TLC斑點進行準確定量， 測量Rf值. 
3.對圖像可任意角度旋轉(zhuǎn),可對色彩亮度、飽和度、對比度進行校正。 
4. 可打印出峰位、Rf值、峰面積、含量、圖像的報告，符合分析要求 
5. 人性化中文軟件操作界面,無*圖譜數(shù)據(jù)庫管理， 
6．機內(nèi)配有圖文并茂的教學軟件，簡明方便，隨時調(diào)看

產(chǎn)品名稱：氧化鋯氧量分析儀 回流焊爐氧分析儀 產(chǎn)品型號：ZO－802

氧化鋯氧量分析儀/回流焊爐氧分析儀型號：ZO－802

ZO－802型氧化鋯氧分析儀是采用新的氧化鋯檢測技術和微機技術開發(fā)的新型分析儀器。可用于空分制氮、化工流程及玻璃、建材中氧含量的連續(xù)自動分析，也可用于電子行業(yè)保護氣體、磁性材料等高溫燒結(jié)爐的保護性氣氛中氧含量的測量。其中專為回流焊爐、波峰焊爐設計的儀表，配有內(nèi)置采樣氣泵、外置過濾器和取樣管路。 

儀器特點: 
· 選用優(yōu)質(zhì)氧化鋯檢測元件，具有壽命長，反應快等特點。 
· 采用大屏幕點陣液晶顯示，可同時顯示氧量、溫度、日期、時間等參數(shù)。 
· 采用全中文人機對話菜單，操作直觀方便。 
· 采用對流擴散式結(jié)構，減少了流量對測量微量氧的影響。 
· 儀器具有從微量到常量共四檔量程，量程自動轉(zhuǎn)換。 
· 上、下限報警點能在全量程范圍內(nèi)任意設置。 
· 具有無紙記錄儀功能，自動記錄氧濃度隨時間的變化曲線。 
· 具有測量數(shù)據(jù)自動存貯功能，存貯的間隔時間由用戶設定。 
· 具有0~10或4~20ma電流信號輸出。 
· 儀器內(nèi)置進口采樣泵。 
· 儀器具有一個標準的RS232C通訊口，可以連接串口打印機與計算機實現(xiàn)雙向通訊。 

技術指標:  
· 測量范圍:0.1ppm~50%O2 
· 自動量程換檔：0~500ppm、0~5000ppm、0~5%、0~50%共4擋（自動換擋）。 
· 基本誤差:±2%FS 
· 重復性誤差：≤1.5% 
· 響應時間：＜30s 
· 零點漂移：±2％FS/7d 
· 量程漂移：±2％FS/7d 
· 輸出信號：4～20mADC（允許外接負載＜800Ω) 
· 0～10mA DC(允許外接負載＜1600Ω) 
· 報警繼電器接點容量：220VAC/1A 
· 功耗：≤50W 
· 電源：220V±10%AC；50Hz±5% 
· 環(huán)境溫度：0~40℃ 
· 相對濕度：不大于90%(冷凝除外) 
· 大氣壓力：當?shù)卮髿鈮毫?nbsp;
· 樣氣溫度：＜100℃ 
· 樣氣壓力范圍：常壓或微壓 
· 樣氣流量：500~700ml/min 
· 儀器外型尺寸：240×150×280mm（寬×高×深） 
· 安裝開孔尺寸：228×138mm 
· 重量：約8kg