離子去膠機 型號：PR-3

通過等離子體方法，對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除。設(shè)備為單室真空系統(tǒng)，主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、報警系統(tǒng)等部分組成。  
射頻電源采用RF500W電源控制。  
氣路系統(tǒng)采用兩臺浮子流量計控制氣體進氣。 
  腔室結(jié)構(gòu)：臥式、純石英 
  真空室規(guī)格：F210´300mm 
  限真空：1Pa（環(huán)境濕度≤55%） 
  真空系統(tǒng):機械泵 
  大裝片直徑: F4英寸 
   大裝片容量：4英寸 25片/爐 
  去膠速率: ～500A/min 
  去膠不均勻性：≤±5％ (φ4吋范圍內(nèi)) 
  操作方式:手動方式 
用戶可選配全自動控制方式